傳統的觸控螢幕是利用ITO在感壓層的兩端形成導電層, 當手指或是筆觸控以後, 利用xy方向的四個電阻的比值或是產生的電容效應的小電流來決定觸控的位置. 這影片介紹利用石墨烯來做成觸控螢幕的實例. 在材料上, 首先利用氣像化學氣相層積 CVD把石墨烯長在銅上, 然後再利用滾輪轉印的方式把石墨烯層轉到高分子層上, 然後最後再轉印到螢幕的材料上. 現在用的透明導電材料ITO因為材質比較脆所以在使用年限上有限制, 要做成可彎曲的也有一些技術困難, 加上材料用到日漸昂貴的希土元素, 所以能用發展穩定的製程石墨烯來取代是技術上一大突破.下面的影片是展示真實的使用情況. 有了穩定的製造技術, 這類型的產品應該就離市場不遠了.學術文獻
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http://zh.wikipedia.org/zh-tw/%E6%B0%A7%E5%8C%96%E9%93%9F%E9%94%A1
氧化銦錫 (ITO，或者摻錫氧化銦)是一種銦（III族）氧化物 (In2O3) and 錫（IV族）氧化物 (SnO2)的混合物，通常質量比為90% In2O3，10% SnO2。它在薄膜狀時，為透明無色。在塊狀態時，它呈黃偏灰色。
氧化銦錫主要的特性是其電學傳導和光學透明的組合。然而，薄膜沉積中需要作出妥協，因為高濃度電荷載流子將會增加材料的電導率，但會降低它的透明度。
氧化銦錫薄膜最通常是用電子束蒸發、物理氣相沉積、或者一些濺射沉積技術的方法沉積到表面。
因為銦的價格高昂和供應受限、ITO層的脆弱和柔韌性的缺乏、以及昂貴的層沉積要求真空，其它取代物正被設法尋找。碳奈米管導電鍍膜是一種有前景的替代品。這類鍍膜正在被Eikos發展成為廉價、力學上更為健壯的ITO替代品。PEDOT和PEDOT:PSS已經被愛克發和H.C. Starck製造出來.PEDOT:PSS層已經進入應用階段（但它也有當暴露與紫外輻射下時它會降解以及一些其他的缺點）。別的可能性包括諸如鋁-參雜的鋅氧化物。
ITO主要用於製作液晶顯示器、平板顯示器、電漿顯示器、觸摸屏、電子紙等應用、有機發光二極體、以及太陽能電池、和抗靜電鍍膜還有EMI屏蔽的透明傳導鍍膜。
ITO也被用於各種光學鍍膜，最值得注意的有建築學中紅外線-反射鍍膜(熱鏡)、汽車、還有鈉蒸汽燈玻璃等。別的應用包括氣體感測器、抗反射膜、和用於VCSEL雷射器的布拉格反射器。
http://zh.wikipedia.org/zh-tw/%E5%8C%96%E5%AD%A6%E6%B0%94%E7%9B%B8%E6%B2%89%E7%A7%AF
化學氣相沉積（英文：Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、性能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓（基底）暴露在一種或多種不同的前驅物下，在基底表面發生化學反應或/及化學分解來產生欲沉積的薄膜。反應過程中通常也會伴隨地產生不同的副產品，但大多會會隨著氣流被帶著，而不會留在反應腔中。
微製程大都使用CVD技術來沉積不同形式的材料，包括單晶、多晶、非晶及磊晶材料。這些材料有矽、碳纖維、碳奈米纖維、奈米線、奈米碳管、SiO2、矽鍺、鎢、矽碳、氮化矽、氮氧化矽及各種不同的high-k介質等材料。CVD製程也常用來生成合成鑽石。
http://zh.wikipedia.org/zh-hk/%E7%9F%B3%E5%A2%A8%E7%83%AF
石墨烯簡介
完美的石墨烯是二維的, 它只包括六邊形(等角六邊形); 如果有五邊形和七邊形存在,那麼他們構成石墨烯的缺陷。如果少量的五角形會使石墨烯翹曲入形狀; 12個五角形的會形成富勒烯(fullerene)。
碳納米管(nanotube)也被認為是捲成圓桶的石墨烯；另外石墨烯還被做成彈道輸運電晶體(ballistic transistor)並且吸引了大批科學家的興趣 。在2006年3月, 佐治亞理工學院(Georgia Institute of Technology) 研究員宣布, 他們成功地製造了石墨烯平面場效應電晶體並觀測到了量子干涉效應。並基於此研究出根據石墨烯為基礎的電路.
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